Senka All Clear Oil f 230 мл

Гидрофильное масло для снятия макияжа, которое тщательно удаляет не только макияж, но и накопившиеся загрязнения. Масло с добавлением масла рисовых отрубей (очищающий компонент) легко удаляет даже водостойкую тушь. Содержит эссенцию шелка природного происхождения и двойную гиалуроновую кислоту для сохранения влаги в коже. Можно использовать с наращенными ресницами (со стандартным цианоакрилатным клеем). Обладает нежным свежим цветочным ароматом.

● Возьмите необходимое количество (около 4 нажатий на помпу) на ладонь и хорошо смешайте с макияжем. Затем тщательно смойте водой или теплой водой.
● Если руки или лицо сильно намокли, перед использованием слегка промокните их.

【Для тех, кто использует наращенные ресницы】
● В области глаз аккуратно распределяйте средство от корней к кончикам, не растирая из стороны в сторону. При наличии наращенных ресниц будьте особенно осторожны, чтобы не тереть область вокруг глаз.
● Наращенные ресницы естественным образом выпадают из-за трения, смены ресниц и образа жизни.
● При начале использования после процедуры наращивания ресниц следуйте инструкциям салона.

Минеральное масло, ПЭГ-8 глицерилизостеарат, цетилэтилгексаноат, изододекан, лаурат пропиленгликоля, ППГ-17, диметикон, глицерин, этилгексилпальмитат, масло зародышей риса, гиалуронат натрия, серицин, ацетилированный гиалуронат натрия, гидролизованный шелк, вода, BHT, токоферол, этанол, лимонная кислота, сорбат калия, отдушка

Размеры: Ширина 74 мм × Глубина 44 мм × Высота 193 мм
Объем: 230 мл
Тип: Основной флакон
Аромат: Нежный свежий цветочный аромат
Совместимость с наращенными ресницами: Можно использовать

◇ При попадании в глаза немедленно промойте их водой или теплой водой.
◇ Может вызвать загрязнение контактных линз, поэтому снимите линзы перед использованием.
◇ Следите за тем, чтобы вода не попала внутрь контейнера.
◇ При наполнении сменного блока полностью используйте содержимое перед заливкой нового.
◇ Храните в недоступном для детей месте.
◇ Не подвергайте воздействию прямых солнечных лучей и высоких температур.